Study of masks used in glass etch industry

سال انتشار: 1394
محل انتشار: ششمین کنگره بین المللی رنگ و پوشش
کد COI اختصاصی: ICCC06_262
زبان مقاله: انگلیسی
تعداد مشاهده: 553

نویسندگان

Inorganic Pigment and Glazes Department, Institute for Color Science and Technology, Tehran, Iran

چکیده

Surface etching technique is commonly used for industrial decoration of glasses. Hydrofluoric acid (HF) solutions or pastes, pure or mixed with other chemicals, are employed as strong corrosive agents to engrave chemically the glass surface. In the wet etching method protective layers as masks are required extensively to prevent the extent of HF to undesired regions. Here, in this study, we are mostly concerned with mask chemical employed in glass etching technique on different surfaces. Thus, analytical tests on the provided industrial masks have been studied. FTIR for detecting base resin, XRD for analyzing major pigments, PSA for determining particle size and distribution techniques have been studied. Results have indicated two different resins; unsaturated polyester and acrylic polymer (PMMA) diluted with monomer styrene. Talc and sulfur are analyzed as major fillers or pigments with 10 µm particle size. Finally, different mask formulations have been compounded and tested primarily for HF resistant penetration..

کلیدواژه ها

Glass etching- Hydrofluoric acid- Corrosive chemical- Mask and screen printing

مقالات مرتبط جدید

اطلاعات بیشتر در مورد COI

COI مخفف عبارت CIVILICA Object Identifier به معنی شناسه سیویلیکا برای اسناد است. COI کدی است که مطابق محل انتشار، به مقالات کنفرانسها و ژورنالهای داخل کشور به هنگام نمایه سازی بر روی پایگاه استنادی سیویلیکا اختصاص می یابد.

کد COI به مفهوم کد ملی اسناد نمایه شده در سیویلیکا است و کدی یکتا و ثابت است و به همین دلیل همواره قابلیت استناد و پیگیری دارد.