بررسی اثر کاشت یون ازت بر روی لایه های کرم
- سال انتشار: 1393
- محل انتشار: اولین طرح تعاملی صنعت با دانشگاه: همایش سالانه پژوهش های کاربردی در علوم مهندسی و پایه
- کد COI اختصاصی: AREBS01_041
- زبان مقاله: فارسی
- تعداد مشاهده: 566
نویسندگان
مدرس دانشگاه فیزیک اتمی مولکولی
چکیده
در این مقاله اثر کاشت یونهای ازت بر روی لایه های نازک کرم تقریبا 600nm که به وسیله تفنگ پرتوی الکترونی بر روی سیلیکون کریستالی نشانده شده بررسی شده است. کاشت یونهای ازت درمحدوده دز at0/cm2 (فرمول در متن اصلی مقاله) و با انرزی 15 kev انجام شده است. برای بهبود خصوصیات سطحْ نمونه ها به مدت 24 ساعت در دمای (فرمول در متن اصلی مقاله) در شرایط خلا و در حضور گاز نئون بازپخت شده و برای پی بردن به یکنواختی سطح و نیز تغییرات آن در اثر کاشت یونهای ازت و نیز بازپختْ از SEM,AFM استفاده شده استکلیدواژه ها
یون، ازت، کرم، پرتو الکترونی، سیلیکونمقالات مرتبط جدید
- بررسی به کارگیری سیستم ذخیره سازی انرژی با استفاده از منابع انرژی تجدیدپذیر
- اقدامات لازم برای حفاظت از محیط زیست دریایی
- ارائه طرح مبتنی بر رایانش ابری جهت ارتقاء بهره وری صنایع خودروسازی (مطالعه موردی: مدیران خودرو)
- مروری بر تکنولوژی ماکرویو برای خردایش سنگ های کمیاب
- کاربرد و بکارگیری تکنولوژی های اینترنت اشیا ، یادگیری ماشین و پردازش تصویر در امنیت و کنترل خودرو
اطلاعات بیشتر در مورد COI
COI مخفف عبارت CIVILICA Object Identifier به معنی شناسه سیویلیکا برای اسناد است. COI کدی است که مطابق محل انتشار، به مقالات کنفرانسها و ژورنالهای داخل کشور به هنگام نمایه سازی بر روی پایگاه استنادی سیویلیکا اختصاص می یابد.
کد COI به مفهوم کد ملی اسناد نمایه شده در سیویلیکا است و کدی یکتا و ثابت است و به همین دلیل همواره قابلیت استناد و پیگیری دارد.