Al2O3 Nano-Cluster Deposition on Ni Substrate Surface: A Molecular Dynamics Study

  • سال انتشار: 1393
  • محل انتشار: پنجمین کنگره بین المللی نانو و فناوری نانو (ICNN2014)
  • کد COI اختصاصی: ICNN05_334
  • زبان مقاله: انگلیسی
  • تعداد مشاهده: 664
دانلود فایل این مقاله

نویسندگان

H Araghi

Department of physics, Amirkabir University of technology, Tehran, Iran

M Mirsharifi

Department of physics, Amirkabir University of technology, Tehran, Iran

P Nayebi

Department of physics, Saveh Branch, Islamic Azad University, Saveh, Iran

چکیده

The MD simulation is an effective way to study micro-scale molecular interactions. In this research the MDmethod is used to simulate the Al2O3 Nano-cluster deposition on Ni substrate in the ionized cluster beam (ICBD) process.We assume an ideal case of simulation in which the Al2O3 target and the Ni substrate in a system with a constanttemperature of 300 K. The surface roughness variations of the thin oxide film will be examined through the change ofthe incident energy with the amount of 10 to 120 eV and the two sizes of the Al2O3 clusters with 12 and 16 Å diameter.Our results show that there is a minimum for the surface roughness with increasing cluster energy.

کلیدواژه ها

Molecular dynamics; Nano-Cluster; Deposition; Thin Films; Ionized cluster beam

اطلاعات بیشتر در مورد COI

COI مخفف عبارت CIVILICA Object Identifier به معنی شناسه سیویلیکا برای اسناد است. COI کدی است که مطابق محل انتشار، به مقالات کنفرانسها و ژورنالهای داخل کشور به هنگام نمایه سازی بر روی پایگاه استنادی سیویلیکا اختصاص می یابد.

کد COI به مفهوم کد ملی اسناد نمایه شده در سیویلیکا است و کدی یکتا و ثابت است و به همین دلیل همواره قابلیت استناد و پیگیری دارد.