بررسی اثر ضخامت لایه فوتوآند با ساختار کره توخالی دی اکسید تیتانیم بر خواص فوتوولتاییک سلول خورشیدی رنگدانه ای
عنوان مقاله: بررسی اثر ضخامت لایه فوتوآند با ساختار کره توخالی دی اکسید تیتانیم بر خواص فوتوولتاییک سلول خورشیدی رنگدانه ای
شناسه ملی مقاله: NANOENERTECH02_052
منتشر شده در دومین کنفرانس تخصصی فناوری نانو در صنعت برق و انرژی در سال 1393
شناسه ملی مقاله: NANOENERTECH02_052
منتشر شده در دومین کنفرانس تخصصی فناوری نانو در صنعت برق و انرژی در سال 1393
مشخصات نویسندگان مقاله:
یاسمن تبری سعدی - دانشگاه صنعتی شریف تهران، ایران
محمدرضا محمدی - دانشگاه صنعتی شریف تهران، ایران
خلاصه مقاله:
یاسمن تبری سعدی - دانشگاه صنعتی شریف تهران، ایران
محمدرضا محمدی - دانشگاه صنعتی شریف تهران، ایران
ساختار کره توخالی دیاکسید تیتانیم با روش تمپلیت کربنی سنتز شده و آزمایشات میکروسکوپ الکترونی روبشی گسیل میدان و پراش اشعه ی ایکس بر روی پودر حاصل انجام شده است. پوشش کره های توخالی دیاکسید تیتانیم بر روی فوتوآند سلول خورشیدی رنگدانه ای با ضخامت های مختلف ایجاد شده و پس از اندازه گیری میزان بازده تبدیل نور به انرژی الکتریکی، از لایه ی فوتوآند با ضخامت 18 میکرومتر بازده 4/48 گزارش شده است.
کلمات کلیدی: ساختار کره توخالی دی اکسید تیتانیم؛ سلول خورشیدی رنگدانه ای؛ تمپلیت کربنی
صفحه اختصاصی مقاله و دریافت فایل کامل: https://civilica.com/doc/297472/