ایرج گودرزنیا - دانشکده مهندسی شیمی و نفت، دانشگاه صنعتی شریف، تهران، ایران
توران خضرایی - دانشکده مهندسی شیمی و نفت، دانشگاه صنعتی شریف، تهران، ایران

هدف از این فعالیت، تولید ذرات سفیکسیم در اندازه کوچک (نانو) می باشد. برای این کار فرایند گاز ضد حلال (GAS) مورد استفاده قرار گرفت. دی اکسید کربن به عنوان گاز ضد حلال ، متانول به عنوان حلال آلی و سفیکسیم به عنوانداروی مدل انتخاب گردید. دمای فرایند بین 50-35 درجه سانتی گراد، فشار 150-75 بار، غلظت 20-0/1، مولال انتخاب گردید. برای کاسن تعداد آزمایشها و به دست آوردن نتیجه مناسب از روش تاگ.چی استفادهشد معادله حالت پنگ – رابینسون (Peng-Robinson) ، تئوری کلاسیک هسته زایی و مدل نفوذ لایه ای برای رشد هسته مورد استفاده قرار گرفت.

فرایند گاز ضد حلال ، سیستم فوق بحرانی ، هسته زایی ، رشد ، حلالیت