ایجاد پوشش نانوساختار سخت TiAlN با استفاده از روش HIPIMS و بررسی اثرات پدیده کندوپاش ثانویه بر خواص سطحی آن

سال انتشار: 1392
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: فارسی
مشاهده: 801

فایل این مقاله در 10 صفحه با فرمت PDF قابل دریافت می باشد

استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:

لینک ثابت به این مقاله:

شناسه ملی سند علمی:

ISSE14_135

تاریخ نمایه سازی: 9 بهمن 1392

چکیده مقاله:

هدف از این مقاله، ایجاد پوشش نانوساختار سخت نیترید تیتانیوم- آلومینیوم TiAlN) با استفاده از روش کندوپاش مغناطیسی با توان بالای برانگیختگی HIPIMS) و نیز بررسی نقش پدیده کندوپاش ثانویه بر خواص نهایی آن میباشد. پدیده کندوپاش ثانویه بر اثر برخورد اتمهای کندوپاش شده (از ماده هدف) با سطح زیرلایه (در حال پوشش) میباشد که در ولتاژهای بایاس منفی بالا اتفاق میافتد. این پدیده اثرات قابل توجهی بر خواص سطحی پوشش دارد. برای این منظور پوششهای نانوساختار TiAlN با استفاده از روش HIPIMS در ولتاژهای بایاس منفی مختلف 50 تا 200 ولت اعمال شد. فرایند لایهنشانی در دمای 300 درجه سانتیگراد، فشار محفظه 5 میلیتور و نسبت گازهای ArN2 به ترتیب 2:1 انجام شد. برای شناسایی و بررسی پوششهای نانوساختار TiAlN و خواص آن از دستگاههای پراش پرتو ایکس، میکروسکوپ الکترونی روبشی میکروسکوپ نیروی اتمی و میکروآنالیزگر پروبی استفاده شد. نتایج دلالت میکند که با تغییر در ولتاژهای بایاس مختلف، ترکیب شیمیایی، ساختار بلوری، زبری سطحی و تراکم پوشش تغییر میکند. یکی از مهمترین علتهای مشترک آن ممکن است بهخاطر پدیده کندوپاش ثانویه باشد که در ولتاژهای بایاس بالا اتفاق میافتد.

کلیدواژه ها:

نویسندگان

حسن علمخواه

تهران، دانشگاه تربیت مدرس، دانشکده فنی و مهندسی، بخش مهندسی مواد (دانشجوی دکترای نانومواد)

فرزاد محبوبی

تهران، دانشگاه صنعتی امیرکبیر، دانشکده معدن و متالورژی (دانشیار)

امیر عبدالهزاده

تهران، دانشگاه تربیت مدرس، دانشکده فنی و مهندسی، بخش مهندسی مواد (استاد)

Kwang Ho Kim

Material Science School, Pusan National University, Sout h Korea (professor)

مراجع و منابع این مقاله:

لیست زیر مراجع و منابع استفاده شده در این مقاله را نمایش می دهد. این مراجع به صورت کاملا ماشینی و بر اساس هوش مصنوعی استخراج شده اند و لذا ممکن است دارای اشکالاتی باشند که به مرور زمان دقت استخراج این محتوا افزایش می یابد. مراجعی که مقالات مربوط به آنها در سیویلیکا نمایه شده و پیدا شده اند، به خود مقاله لینک شده اند :
  • . B. Podgornik, B. Zajec, N. Bay, J. Vizintin, "Application ...
  • . B. Yang, L. Chen, K.K. Chang, W. Pan, Y.B. ...
  • . C. W. Kim, K. H. Kim, "Anti- oxidation roperties ...
  • mixed alkoxide solutions by plasma CVD", _ Solid Films, 370, ...
  • . D.Y. Wang, Y.W. Li, C.L. Chng, W.Y. Ho, "Depcsition ...
  • . S.Y. Yoon, K. O. Lee, S. S. Kang, K. ...
  • . P.W. Shum, W.C. Tam, K.Y. Li, Z.F. Zhou, Y.G. ...
  • . [5]. G. Greczynski, J. Lu, M.P. Johnsson, J. Jensen, ...
  • . E.O. Hall, Proc. Phys. Soc. Lond.B64, 1951, 747. ...
  • . B. Subramanen, K. Ashok, M. Jaychandran, "Effect of substrate ...
  • نمایش کامل مراجع