CIVILICA We Respect the Science
(ناشر تخصصی کنفرانسهای کشور / شماره مجوز انتشارات از وزارت فرهنگ و ارشاد اسلامی: ۸۹۷۱)

فاصله مقاومت و اندیس کیرشهف نانوساختارها

عنوان مقاله: فاصله مقاومت و اندیس کیرشهف نانوساختارها
شناسه ملی مقاله: NANOSC02_054
منتشر شده در دومین همایش دانشجویی فناوری نانو در سال 1386
مشخصات نویسندگان مقاله:

فرزانه غلامی نژاد - دانشگاه کاشان بخش ریاضی دانشکده علوم
علی رضا اشرفی - دانشگاه کاشان بخش ریاضی دانشکده علوم

خلاصه مقاله:
با فرض برقراری جریان الکتریکی در گراف مولکولی یک نانو مخروط کربنی، هر پیوند (یال) به عنوان سیمی بامقاومت الکتریکی واحد در نظر گرفته شده بر این اساس مقاومت الکتیکی موثر بی هر دو اتم (راس) کربن از گراف مولکولی، بر اساس روابط موجود در نظریه گراف به دست می آید. اندیس کیرشهف که به صورت [فرمول در متن اصلی ] بر حسب فاصله مقاومت r ij تعریف می شود. به وسیله روابط موجود در نظریه شبکه های الکتریکی محاسبه می شود. هدف اصلی این سمینار محاسبه این اندیس برای نانو مخروط CNC[n] و فولرن ها است.

کلمات کلیدی:
فاصله مقاومت ، اندیس کیرشهف ، ماتریس لاپلاسی

صفحه اختصاصی مقاله و دریافت فایل کامل: https://civilica.com/doc/22814/