بررسی ویژگی های میکروساختاری لایه نازک Cu با تغییر دمای زیرلایه بر مبنای نظریه فرکتال
سال انتشار: 1390
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: فارسی
مشاهده: 577
متن کامل این مقاله منتشر نشده است و فقط به صورت چکیده یا چکیده مبسوط در پایگاه موجود می باشد.
توضیح: معمولا کلیه مقالاتی که کمتر از ۵ صفحه باشند در پایگاه سیویلیکا اصل مقاله (فول تکست) محسوب نمی شوند و فقط کاربران عضو بدون کسر اعتبار می توانند فایل آنها را دریافت نمایند.
- صدور گواهی نمایه سازی
- من نویسنده این مقاله هستم
استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:
شناسه ملی سند علمی:
THINFILM01_009
تاریخ نمایه سازی: 3 آذر 1392
چکیده مقاله:
لایه نازک مس (Cu) با روش کند و پاش مغناطیسی در محدوده دمای زیرلایه 523 - 300 درجه کلوین بر روی زیرلایه شیشه انباشت شد. تاثیر تغییر دمای زیرلایه بر ویژگی های میکرو ساختاری لایه نازک مس مورد مطالعه قرار گرفت. توپوگرافی سطح لایه توسط میکروسکوپ الکترونی عبوری ( SEM ) مورد بررسی قرار گرفت. پارامترهای بررسی توگرافی سطح با استفاده از نظریه فرکتال بدست آمدند. روش شمارش جعبه دیفرانسیلی برای محاسبه بعد فرکتالی مورد استفاده قرار گرفت. برای بررسی بهتر زبری سطح فیلم ها از تصاویر دو و سه بعدی تصاویر SEM استفاده شد.
کلیدواژه ها:
نویسندگان
الهام جعفری خمسه
پژوهشکده تحقیقات کشاورزی، پزشکی و صنعتی هسته ای ، کرج
پروین بلاش آبادی
پژوهشکده تحقیقات کشاورزی، پزشکی و صنعتی هسته ای ، کرج
ضرغام اسداللهی
پژوهشکده تحقیقات کشاورزی، پزشکی و صنعتی هسته ای ، کرج
سیما عشقی
گروه مواد دانشگاه آزاد اسلامی واحد علوم و تحقیقات تهران