Development of Dual-Phase-Lag model for Conjugate Heat Transfer in Nanoscale MOSDevices

  • سال انتشار: 1394
  • محل انتشار: بیست و سومین همایش بین المللی انجمن مهندسان مکانیک ایران
  • کد COI اختصاصی: ISME23_680
  • زبان مقاله: انگلیسی
  • تعداد مشاهده: 85
دانلود فایل این مقاله

نویسندگان

J Ghazanfarian

Department of Mechanical Engineering, Faculty of engineering, University of Zanjan, Zanjan, Iran

M Moghaddam

Mechanical Engineering Department, Amirkabir University of Technology, Tehran, Iran,

A Abbassi

Mechanical Engineering Department, Amirkabir University of Technology, Tehran, Iran,

چکیده

The transient heat transfer in micro and nanochannelshas been investigated under the effect of dual-phase-lagheat conduction model. The velocity slip andtemperature-jump boundary conditions are considered inaddition to the conjugate heat transfer boundarycondition. The effects of physical parameters areinvestigated and the corresponding value of theseparameters has been proposed using the least-squarefitting method. The DPL model is revisited in order toinclude the convective term in material derivative. Thenthe resulting model has been used to investigate thethermal behavior of the metal oxide semiconductor(MOS) devices.

کلیدواژه ها

material derivative, dual-phase-lag, conjugateheat transfer, nanoscale, MOS

اطلاعات بیشتر در مورد COI

COI مخفف عبارت CIVILICA Object Identifier به معنی شناسه سیویلیکا برای اسناد است. COI کدی است که مطابق محل انتشار، به مقالات کنفرانسها و ژورنالهای داخل کشور به هنگام نمایه سازی بر روی پایگاه استنادی سیویلیکا اختصاص می یابد.

کد COI به مفهوم کد ملی اسناد نمایه شده در سیویلیکا است و کدی یکتا و ثابت است و به همین دلیل همواره قابلیت استناد و پیگیری دارد.