حافظ مقصودی - دانشجوی دکتری
محمد سلطانیه - استاددانشگاه صنعتی شریف

غشای سیلیس خالص باساختارCHA باروش تبلور درجاin-situ crystallization برروی پایه متخلخل a- الومینا سنتز شد بدلیل ترکیب خاص ژل سنتز این نوع زئولیت سنتز این نوع غشای زئولیتی تابحال انجام نشده ا ست ترکیب خاص ژل سنتز باعث میشود که غشا درفاز جامد مانند سنتز شده و دانه های کریستالی زئولیت ها ازپیوستگی مناسب برخوردار نباشند درنتیجه دراثرتکرار مراحل سنتز برای تشکیل لایه بدون عیب غشای نسبتا ضخیمی 20M-15 سنتز شدپیوستگی نامانسب دانه های کریستالی ازیک طرف و ضخیم بودن غشای سنتز شده ازطرف دیگر باعث می شود که غشا درمرحله کلسیناسیون ترک بردارد و حاوی حفرات غیرزئولیتی شود که نهایتا توانایی آن را درجداسازی گازها کاهش میدهد بمنظور اصلاح و گرفته شدن حفرات غیرزئولیتی غشای کلسینه شده ازیک محلول سل ـ ژل استفاده شد با این روش حفرات غیرزئولیتی بطور موفقیت امیزی مسدود شدند بطوریکه انتخاب پذیری ایده ال آن درجداسازی مخلوط CO2/CH4 دردمای 303K و اختلاف فشار200kpa از8به 95 افزایش یافت درحالیکه جریان گازهای عبوری درفشار 0/88kpa قرار داشت درغشای سنتز واصلاح شده فلاکس گاز co2 عبوری هم برابر 6/62mmol/m2.s اندازه گیری شده است

غشای زئولیتی /زئولیت سیلیس خالص/CHA اصلاح غشا