Strained Si/SiGe MOSFET for Improved Performance
محل انتشار: کنگره ملی مهندسی برق، کامپیوتر و فناوری اطلاعات
سال انتشار: 1392
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: انگلیسی
مشاهده: 1,036
متن کامل این مقاله منتشر نشده است و فقط به صورت چکیده یا چکیده مبسوط در پایگاه موجود می باشد.
توضیح: معمولا کلیه مقالاتی که کمتر از ۵ صفحه باشند در پایگاه سیویلیکا اصل مقاله (فول تکست) محسوب نمی شوند و فقط کاربران عضو بدون کسر اعتبار می توانند فایل آنها را دریافت نمایند.
- صدور گواهی نمایه سازی
- من نویسنده این مقاله هستم
استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:
شناسه ملی سند علمی:
CECIT01_741
تاریخ نمایه سازی: 14 شهریور 1392
چکیده مقاله:
This paper presents a quantitative study on the device design of ultrathin strained-silicon-on-insulator (strained-SOI) MOSFETs in the sub-100-nm regime aiming atsuppression of short-channel effects (SCEs) and improving the device performance, i.e., break down voltage and sub-threshold swing (SS). In order to improve those parameters, a strainedSi/Si1-xGex is investigated as a replacement for Si technology. We study on the Ge content while the ratio of strained Si and SiGe layers is changing
کلیدواژه ها:
نویسندگان
Zahra Arbabinejad
Electrical Engineering Department, Hakim Sabzevari University of Sabzevar,
Seyed Ebrahim Hosseini
Electrical Engineering Department, Ferdowsi University of Mashhad,
مراجع و منابع این مقاله:
لیست زیر مراجع و منابع استفاده شده در این مقاله را نمایش می دهد. این مراجع به صورت کاملا ماشینی و بر اساس هوش مصنوعی استخراج شده اند و لذا ممکن است دارای اشکالاتی باشند که به مرور زمان دقت استخراج این محتوا افزایش می یابد. مراجعی که مقالات مربوط به آنها در سیویلیکا نمایه شده و پیدا شده اند، به خود مقاله لینک شده اند :