Analysis and optimization of Tunnel FET with Band gap Engineering

  • سال انتشار: 1392
  • محل انتشار: بیست و یکمین کنفرانس مهندسی برق ایران
  • کد COI اختصاصی: ICEE21_225
  • زبان مقاله: انگلیسی
  • تعداد مشاهده: 1315
دانلود فایل این مقاله

نویسندگان

M. R. Salehi

Shiraz university of technology

E Abiri

Shiraz university of technology

S. E. Hosseini

Ferdowsi university of Mashad

B. Dorostkar

Shiraz university of technology

چکیده

in this paper a high performance double gate tunnel field effect transistor (DG-TFET) is proposed. Band gap engineering is achieved in order to improve the device performance. This novelTFET is formed from variable band gap materials with 20 nm channel length to enhance on current and reach to low off-current.With precise selection of mole fraction in materials, and are designated to all region in the device and important characterises of TFET areoptimized. Low sub threshold swing below 60 mv/dec ratio as high as 10

کلیدواژه ها

band-to-band tunneling, high-k dielectric, Double-gate, gated p-i-n diode, sub threshold swing,tunneling transistor

مقالات مرتبط جدید

اطلاعات بیشتر در مورد COI

COI مخفف عبارت CIVILICA Object Identifier به معنی شناسه سیویلیکا برای اسناد است. COI کدی است که مطابق محل انتشار، به مقالات کنفرانسها و ژورنالهای داخل کشور به هنگام نمایه سازی بر روی پایگاه استنادی سیویلیکا اختصاص می یابد.

کد COI به مفهوم کد ملی اسناد نمایه شده در سیویلیکا است و کدی یکتا و ثابت است و به همین دلیل همواره قابلیت استناد و پیگیری دارد.