Production of Iridium Metal Thin Films for Application as electrodes in DRAMs and FRAMs
- سال انتشار: 1391
- محل انتشار: هفتمین سمپوزیوم بین المللی پیشرفتهای علوم و تکنولوژی
- کد COI اختصاصی: SASTECH07_139
- زبان مقاله: انگلیسی
- تعداد مشاهده: 1356
نویسندگان
University of Science and Technology And Young Researchers Club Miandoab, Iran
Faculty of Science, IAV, Urmia, Brench Urmia, Iran
چکیده
Thin films of Noble metals such as Iridium have several potential applications in ICs. Electronic devices are fabricated on the integrated circuits that include transistor, capacitor and resistance. They can be used as electrodes in DRAMs and FRAMs, and as gate electrodes in MOSFETs. Noble metals are excellent metals for electrode fabrication because chemical stability, highly electrical resistance, highly work function and many of them can withstand highly oxidizing conditions. Emphasis is on Reaction mechanisms and limits, leakage currents, electrodes and electrode interfaces and deposition techniques.کلیدواژه ها
Atomic layer deposition, precursor, gate electrode, dynamic and ferroelectric memories, capacitorsمقالات مرتبط جدید
- بررسی به کارگیری سیستم ذخیره سازی انرژی با استفاده از منابع انرژی تجدیدپذیر
- اقدامات لازم برای حفاظت از محیط زیست دریایی
- ارائه طرح مبتنی بر رایانش ابری جهت ارتقاء بهره وری صنایع خودروسازی (مطالعه موردی: مدیران خودرو)
- مروری بر تکنولوژی ماکرویو برای خردایش سنگ های کمیاب
- کاربرد و بکارگیری تکنولوژی های اینترنت اشیا ، یادگیری ماشین و پردازش تصویر در امنیت و کنترل خودرو
اطلاعات بیشتر در مورد COI
COI مخفف عبارت CIVILICA Object Identifier به معنی شناسه سیویلیکا برای اسناد است. COI کدی است که مطابق محل انتشار، به مقالات کنفرانسها و ژورنالهای داخل کشور به هنگام نمایه سازی بر روی پایگاه استنادی سیویلیکا اختصاص می یابد.
کد COI به مفهوم کد ملی اسناد نمایه شده در سیویلیکا است و کدی یکتا و ثابت است و به همین دلیل همواره قابلیت استناد و پیگیری دارد.