بررسی بازدارندگی یک شبف باز جدید بر روی مس و بهبود راندمان آن با بنزوتری آزول در اسید سولفوریک نیم مولار

  • سال انتشار: 1390
  • محل انتشار: پنجمین همایش مشترک انجمن مهندسی متالورژی ایران و انجمن ریخته گری ایران
  • کد COI اختصاصی: IMES05_080
  • زبان مقاله: فارسی
  • تعداد مشاهده: 1151
دانلود فایل این مقاله

نویسندگان

فاطمه بقایی راوری

عضو هیئت علمی بخش مهندسی مواد و متالورژی دانشگاه شهید باهنر کرمان

اطهره دادگری نژاد

عضو هیئت علمی بخش مهندسی مواد و متالورژی دانشگاه شهید باهنر کرمان

سارا فضلی

عضو هیئت علمی بخش مهندسی مواد و متالورژی دانشگاه شهید باهنر کرمان

معصومه ملایی

عضو هیئت علمی بخش مهندسی مواد و متالورژی دانشگاه شهید باهنر کرمان

چکیده

در این تحقیق میزان بازدارندگان یک شیف باز جدید بر روی مس و بهبود راندمان آن با بنزوتری آزول در اسید سولفوریک نیم مولار با استفاده از روشهای الکتروشیمیایی (پتانسیودینامیک و AC امپدانس) بدست آورده شد. نتایج نشان دادند که اضافه شدن شیف باز به اسید سولفوریک نیم مولار باعث کاهش جریان خوردی مس شده است و افزایش غلظت شیف باز، باعث افزایش درصد بازدارندگی آن شده است. با اضافه کردن 10ppm بنزوتری آزول به شیفت باز باعث افزایش بیشتر درصد بازدارندگی، نسبت به شیف باز تنها، شده است. نتایج منحنیهای نایکوئیست (AC امپدانس) نشان میدهد که اضافه شدن شیف باز باعث افزایش مقاومت انتقال بار و کاهش ظرفیت لایه دو گانه ( Cdl ) شده است و همچنین اضافه کردن 10 ppm بنزوتری آزول، باعث افزایش راندمان بازدارندگی شیف باز شده است. این مخلوط ممانعت کننده مناسبی برای مس در اسید سولفوریک نیم مولار می باشد. همچنین جذب این شیف باز به تنهایی و با اضافه کردن بنزوتری آزول به آن بر روی سطح مس از جذب ایزوترم لانگمیر پیروی می کنند.

کلیدواژه ها

بازدارنده، شیف باز، بنزوتری آزول، مس، روشهای الکتروشیمیایی

مقالات مرتبط جدید

اطلاعات بیشتر در مورد COI

COI مخفف عبارت CIVILICA Object Identifier به معنی شناسه سیویلیکا برای اسناد است. COI کدی است که مطابق محل انتشار، به مقالات کنفرانسها و ژورنالهای داخل کشور به هنگام نمایه سازی بر روی پایگاه استنادی سیویلیکا اختصاص می یابد.

کد COI به مفهوم کد ملی اسناد نمایه شده در سیویلیکا است و کدی یکتا و ثابت است و به همین دلیل همواره قابلیت استناد و پیگیری دارد.