سلولهای فوتوولتائیک نانوپلاسمونیکی

در این مقاله جذب انرژی درون سلولهای فوتوولتائیک را به کمک روشFDTDمحاسبه میکنیم. با مقایسه میزان بازتاب و جذب درون سلول یک بار با به کارگیری پوشش ضدبازتاب از جنس نیترید سیلیکون و یک بار با آرایهایی از نانومیلههای متناوب از جنسنقره نشان میدهیم که جذب درون سلول با کارگیری نانومیلهها نسبت به هنگامی که لایهی ضدبازتاب را بر روی سطح سلول قرار میدهیم بیشتر افزایش مییابد و ارتفاع نمودارمیزان جذب در این حالت بیشتر است. با مقایسه نمودار بازتاب در هر دو حالت در می- یابیم که بازتاب در حالتی که نانومیلهها به سطح سلول اضافه میشوند، در یک محدودهوسیعتری از طول موج کاهش مییابد و کاهش بازتاب افزایش میزان جذب را بههمراه دارد. با تنظیم دقیق دوره تناوب،ارتفاع و ضخامت نانومیلهها میتوان میزان بازتاب در محدودهی فعالیت سلول خورشیدی را به حداقل رساند و بهرهی سلول را به میزان قابل توجهی افزایش داد

کلیدواژه ها:

سلولهای فوتوولتائیک ، لایهی ضد بارتاب ، نانومیلهها ، روشFDTD