Impact of Gate and Drain Engineering on DC Performance of Charge Plasma TFETs

  • سال انتشار: 1402
  • محل انتشار: پنجمین کنفرانس بین المللی مهندسی برق، کامپیوتر، مکانیک و هوش مصنوعی
  • کد COI اختصاصی: EECMAI05_005
  • زبان مقاله: انگلیسی
  • تعداد مشاهده: 61
دانلود فایل این مقاله

نویسندگان

Saied Marjani

Khorasan Regional Electrical Company, Mashhad ۹۱۷۳۵۱۸۵, Iran

چکیده

In this paper, a combined effect of gate and drain workfunctionengineering for enhancing the DC performance of charge plasmaTFETs (CPTFETs) are investigated and proposed. To overcome theissue of ambipolar nature, low threshold voltage and low sub-thresholdslope, we introduce a novel technique (dual work functionality) over thedrain region, with dual work functionality at the gate electrode in acharge plasma based TFET. In this proposed device, the use of dualwork function on drain electrode modulates the bands at the drainchannel interface, which leads to higher barrier for the flow of the holesfrom conduction band of drain to valence band of the channel region,which suppress the ambipolar nature of the device. Furthermore, thepresence of dual work function at the gate electrode improves ON-statecurrent, threshold voltage and sub-threshold slope. Finally, the deviceshows applicability for low power supply voltages as device achievesthe maximum value of high frequency parameters at or below ۰.۶ V ofgate to source voltage.

کلیدواژه ها

Gate Engineering, Drain Engineering, DC/RF performance, Charge Plasma TFETs (CPTFETs)

مقالات مرتبط جدید

اطلاعات بیشتر در مورد COI

COI مخفف عبارت CIVILICA Object Identifier به معنی شناسه سیویلیکا برای اسناد است. COI کدی است که مطابق محل انتشار، به مقالات کنفرانسها و ژورنالهای داخل کشور به هنگام نمایه سازی بر روی پایگاه استنادی سیویلیکا اختصاص می یابد.

کد COI به مفهوم کد ملی اسناد نمایه شده در سیویلیکا است و کدی یکتا و ثابت است و به همین دلیل همواره قابلیت استناد و پیگیری دارد.