بررسی اثر چگالی جریان الکتریکی بر سختی پوشش نانوکریستالی NiW اعمالی به روش رسوب الکتروشیمیایی
سال انتشار: 1391
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: فارسی
مشاهده: 1,206
متن کامل این مقاله منتشر نشده است و فقط به صورت چکیده یا چکیده مبسوط در پایگاه موجود می باشد.
توضیح: معمولا کلیه مقالاتی که کمتر از ۵ صفحه باشند در پایگاه سیویلیکا اصل مقاله (فول تکست) محسوب نمی شوند و فقط کاربران عضو بدون کسر اعتبار می توانند فایل آنها را دریافت نمایند.
- صدور گواهی نمایه سازی
- من نویسنده این مقاله هستم
استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:
شناسه ملی سند علمی:
MUBNANO01_110
تاریخ نمایه سازی: 19 دی 1391
چکیده مقاله:
در این تحقیق با استفاده از یک حمام سیتراتی در چگالی جریانهای 20، 60 و 120 میلی آمپر بر سانتی مترمربع و دمای 72 درجه سانتی گراد، اقدام به رسوب الکتروشیمیایی پوشش نانو کریستالی نیکل تنگستن بااندازه دانه حدود 40 نانومتر در چگالی جریان الکتریکی 20 میلی آمپر بر سانتی متر مربع نمودیم. جهت بررسی مورفولوژی سطحی از میکروسکوپ الکترون روبشی SEM استفاده گردید. همچنین بمنظور آنالیز عنصری از آزمون EDS استفاده گردید. جهت بررسی فاز ها و اندازه دانه پوشش از آزمون XRD استفاده نمودیم. نتایج نشان داد که با افزایش چگالی جریان میزان تنگستن رسوبی افزایش، اندازه دانه های کریستالی کاهش و سختی افزایش می یابد.
کلیدواژه ها:
نویسندگان
محمد کاظمی
دانشکده فنی و مهندسی گروه مهندسی مواد دانشگاه آزاد اسلامی واحد اهواز
سهراب سنجابی
دانشگاه تربیت مدرس
محمد خزعلیان
دانشگاه آزاداهواز
مراجع و منابع این مقاله:
لیست زیر مراجع و منابع استفاده شده در این مقاله را نمایش می دهد. این مراجع به صورت کاملا ماشینی و بر اساس هوش مصنوعی استخراج شده اند و لذا ممکن است دارای اشکالاتی باشند که به مرور زمان دقت استخراج این محتوا افزایش می یابد. مراجعی که مقالات مربوط به آنها در سیویلیکا نمایه شده و پیدا شده اند، به خود مقاله لینک شده اند :