CFD -based optimization of MOCVD process in an atmospheric pressure vertical rotating disk reactor
- سال انتشار: 1391
- محل انتشار: چهاردهمین کنگره ملی مهندسی شیمی ایران
- کد COI اختصاصی: NICEC14_365
- زبان مقاله: انگلیسی
- تعداد مشاهده: 1416
نویسندگان
Sharif University of Technology
چکیده
In this work,optimization of metalorganic chemical vapor deposition process for more layer thickness uniformity with especial attention to reactor geometric parameters as decisions variables is presented.A numerical solution to a steady thermal flow associated with multi-species and chemical reactions in atmospheric pressure axisymmetrical rotating disk reactor corresponding to metalorganic chemical vapor deposition process, by the CFD technique is obtained. Then validation of the numerical results with thebenchmark solutions is conducted and finally integrating the CFD simulator with an optimization program as a new approach is carried out to obtain the optimum value of decision variables.The obtained optimum configuration, results in a decrease in thickness deviation of deposited film from 29.8% to 16.5%.کلیدواژه ها
Transport phenomena, CFD; MOCVD Optimization, geometric parametresمقالات مرتبط جدید
- سنتز نانو ماده اکسیدگرافن و بررسی تاثیر آن بر روی مقاومت شیمیایی رنگ آلکیدی
- پیش بینی نرخ های تولید چندفازی (نفت، گاز و آب) با استفاده از روش های یادگیری ماشین: مرور بر روش ها و کاربردها
- روشهای کنترل داده محور در مهندسی شیمی
- بررسی جداسازی گاز پروپیلن از پروپان در غشای ۶FDA-durene با استفاده از روش شبیه سازی مولکولی
اطلاعات بیشتر در مورد COI
COI مخفف عبارت CIVILICA Object Identifier به معنی شناسه سیویلیکا برای اسناد است. COI کدی است که مطابق محل انتشار، به مقالات کنفرانسها و ژورنالهای داخل کشور به هنگام نمایه سازی بر روی پایگاه استنادی سیویلیکا اختصاص می یابد.
کد COI به مفهوم کد ملی اسناد نمایه شده در سیویلیکا است و کدی یکتا و ثابت است و به همین دلیل همواره قابلیت استناد و پیگیری دارد.