Effect of Ion Implantation on the Resistance of Channel Region in the LDMOSFET
عنوان مقاله: Effect of Ion Implantation on the Resistance of Channel Region in the LDMOSFET
شناسه ملی مقاله: ISCEE15_163
منتشر شده در پانزدهمین کنفرانس دانشجویی مهندسی برق ایران در سال 1391
شناسه ملی مقاله: ISCEE15_163
منتشر شده در پانزدهمین کنفرانس دانشجویی مهندسی برق ایران در سال 1391
مشخصات نویسندگان مقاله:
Mahdi Ghasemi - Department of Electrical Engineering, South Tehran Branch, Islamic Azad University, Tehran
خلاصه مقاله:
Mahdi Ghasemi - Department of Electrical Engineering, South Tehran Branch, Islamic Azad University, Tehran
In this paper we show the effect of ion implantation on the resistance of the LDMOSFET. In the ion implanted channel (IIC) LDMOSFET the channel region charge ismodified, thus the inversion layer charge is changed. Since the resistance in a MOSFET is determined by the inversion layercharge, the resistance of the channel region may be varied. By employing the IIC structure, the inversion layer charge decreases and thus the resistance increases.
کلمات کلیدی: IIC LDMOSFET; ion implantation; inversion layer charge; channel region resistance
صفحه اختصاصی مقاله و دریافت فایل کامل: https://civilica.com/doc/170901/