عباس جوادیان - Damghan University
محمد رضا فدوی اسلام - Damghan University

لایه های نازک اکسید نیکل با موفقیت در دماهای بستر ۴۴۰، ۴۶۰، ۴۸۰ و ۵۰۰ درجه سانتی گراد، نرخ­های پاشش ۱، ۵/۲، ۵، و ۵/۷ میلی لیتر بر دقیقه، حجم های محلول پاشش ۵۰، ۱۰۰، ۱۵۰ و ۲۰۰ میلی لیتر و غلظت­های نیکل در محلول پاشش ۵، ۱۰، ۱۵ و ۲۰ درصد اتمی بر بسترهای شیشه­ای با استفاده از پیش ماده کلرید نیکل شش آبه (NiCl۲.۶H۲O) به روش افشانه گرمایی لایه نشانی شدند. ویژگی­های ساختاری و نوری لایه­های نازک بررسی شدند. آنها ماهیتی بس بلوری با ساختار تک فاز مکعبی NiO و با قله­های مربوط به صفحات (۱۱۱)، (۲۰۰) و (۲۲۰) با جهت گیری ترجیحی در راستای (۱۱۱) را نشان می­دهند. ریختار لایه های نازک شامل دانه های کروی در کل سطح و زبری متوسط ​​در گستره ۷۱/۲۸ تا ۶۳/۱۰۵ نانومتر تابع شرایط لایه نشانی است. گاف نوری و انرژی اورباخ نمونه ها به ترتیب در گسترهای ۵۵/۲ تا eV ۴۹/۳ و ۴۱/۰ تا eV  ۵۵/۰ برآورد شدند.

Nickel oxide, thin film, spray pyrolysis, deposition conditions, اکسید نیکل؛ لایه نازک؛ افشانه گرمایی؛ شرایط لایه نشانی.