CIVILICA We Respect the Science
(ناشر تخصصی کنفرانسهای کشور / شماره مجوز انتشارات از وزارت فرهنگ و ارشاد اسلامی: ۸۹۷۱)

بررسی عوامل موثر در رسوب الکتروشیمیایی پلاتین روی سیم های ارتودنسی توسط جریان مستقیم

عنوان مقاله: بررسی عوامل موثر در رسوب الکتروشیمیایی پلاتین روی سیم های ارتودنسی توسط جریان مستقیم
شناسه ملی مقاله: IMES04_357
منتشر شده در چهارمین همایش مشترک انجمن مهندسین متالورژی و انجمن ریخته گری ایران در سال 1389
مشخصات نویسندگان مقاله:

ناصر توحیدی - استاددانشکده های فنی دانشگاه تهران، دانشکده مهندسی متالورژی و مواد
سعید رضا اله کرم - دانشیار دانشکده های فنی دانشگاه تهران، دانشکده مهندسی متالورژی و مو
سید کاوه خوانساری - دانشجوی کارشناسی ارشد مهندسی متالورژی و مواد دانشکده های فنی دانشگاه

خلاصه مقاله:
به منظور مطابقت بیشتر رنگ سیم های ارتودنسی با دندان و سازگاری مناسب تر آنها با بدن، آبکاری پلاتین بر روی سیم های نایتانول با استفاده از حمام هگزا کلروپلاتنیک پتاسیم از طریق جریان مستقیم انجام گرفت. برای آماده سازی سطح چندین روش مورد آزمایش قرار گرفت و در نهایت با توجه به بررسی مقطع رسوب توسط میکروسکوپ الکترونی، اسید شویی توسط اسید نیتریک - اسید نیتریک-اسید فلوئوریدریک انتخاب شد. برای تعیین کمیت های بهینه عوامل موثر در ابتدا آزمایش های اولیه برای تعیین محدوده کمیت ها و سپس آزمایش های نهایی انجام شد. برای بهینه سازی کمیت عوامل موثر بر پوشش دهی از روش طراحی آزمایش ها تاگوچی، استفاده شد. پوشش چسبنده و با رنگ مناسب د رپتانسیل 1480 میلی ولت، 0/4ph ، دمای 76 درجه سانتگراد، غلظت نمک هگزا کلرو پلاتینیک پتاسیم 2/85 میلی مولار و زمان 17 دقیقه حاصل شد. بررسی شرایط بدست آمده برای اختلاف پتانسیل و دما نشان داد کمیت های بدست آمده برای این پارامترها مناسب ترین مقادیر می باشد.

کلمات کلیدی:
پوشش دهی پلاتین ، آبکاری سیم های ارتودنسی ، جریان مستقیم ، طراحی آزمایش به روش تاگوچی، مواد زیستی

صفحه اختصاصی مقاله و دریافت فایل کامل: https://civilica.com/doc/156941/