بررسی عوامل موثر در رسوب الکتروشیمیایی پلاتین روی سیم های ارتودنسی توسط جریان مستقیم
- سال انتشار: 1389
- محل انتشار: چهارمین همایش مشترک انجمن مهندسین متالورژی و انجمن ریخته گری ایران
- کد COI اختصاصی: IMES04_357
- زبان مقاله: فارسی
- تعداد مشاهده: 1282
نویسندگان
استاددانشکده های فنی دانشگاه تهران، دانشکده مهندسی متالورژی و مواد
دانشیار دانشکده های فنی دانشگاه تهران، دانشکده مهندسی متالورژی و مو
دانشجوی کارشناسی ارشد مهندسی متالورژی و مواد دانشکده های فنی دانشگاه
چکیده
به منظور مطابقت بیشتر رنگ سیم های ارتودنسی با دندان و سازگاری مناسب تر آنها با بدن، آبکاری پلاتین بر روی سیم های نایتانول با استفاده از حمام هگزا کلروپلاتنیک پتاسیم از طریق جریان مستقیم انجام گرفت. برای آماده سازی سطح چندین روش مورد آزمایش قرار گرفت و در نهایت با توجه به بررسی مقطع رسوب توسط میکروسکوپ الکترونی، اسید شویی توسط اسید نیتریک - اسید نیتریک-اسید فلوئوریدریک انتخاب شد. برای تعیین کمیت های بهینه عوامل موثر در ابتدا آزمایش های اولیه برای تعیین محدوده کمیت ها و سپس آزمایش های نهایی انجام شد. برای بهینه سازی کمیت عوامل موثر بر پوشش دهی از روش طراحی آزمایش ها تاگوچی، استفاده شد. پوشش چسبنده و با رنگ مناسب د رپتانسیل 1480 میلی ولت، 0/4ph ، دمای 76 درجه سانتگراد، غلظت نمک هگزا کلرو پلاتینیک پتاسیم 2/85 میلی مولار و زمان 17 دقیقه حاصل شد. بررسی شرایط بدست آمده برای اختلاف پتانسیل و دما نشان داد کمیت های بدست آمده برای این پارامترها مناسب ترین مقادیر می باشد.کلیدواژه ها
پوشش دهی پلاتین ، آبکاری سیم های ارتودنسی ، جریان مستقیم ، طراحی آزمایش به روش تاگوچی، مواد زیستیمقالات مرتبط جدید
اطلاعات بیشتر در مورد COI
COI مخفف عبارت CIVILICA Object Identifier به معنی شناسه سیویلیکا برای اسناد است. COI کدی است که مطابق محل انتشار، به مقالات کنفرانسها و ژورنالهای داخل کشور به هنگام نمایه سازی بر روی پایگاه استنادی سیویلیکا اختصاص می یابد.
کد COI به مفهوم کد ملی اسناد نمایه شده در سیویلیکا است و کدی یکتا و ثابت است و به همین دلیل همواره قابلیت استناد و پیگیری دارد.