بررسی اثر ولتاژ بر قطر حفره ها و ضخامت لایه آندی
- سال انتشار: 1387
- محل انتشار: دومین همایش مشترک انجمن مهندسین متالورژی و انجمن ریخته گری ایران
- کد COI اختصاصی: IMES02_097
- زبان مقاله: فارسی
- تعداد مشاهده: 1077
نویسندگان
دانشگاه امیرکبیر
دانشگاه صنعتی امیرکبیر
آزمایشگاه تحقیقاتی جابر بن حیان
دانشکده مهندسی معدن و متالورژی،دانشگاه امیرکبیر
چکیده
غشاءهای آلومینا آندیک از آلومینیم در محلول اسید اگزالیک بوسیله فرایند آندایزینگ دو مرحله ای ساخته می شود. این غشاءها به خاطر پایداری گرمایی وشیمیای به مقادیر زیادی در صنعت استفاده می شود. در این مقاله مشخصاتی از قبیل قطر حفره و ضخامت لایه آندی که به وسیله ولتاژ اعمالی محلول تغییر می کند،. مور فولوزی این غشاءها به وسیله میکروسکوپ الکترونی روبشی بررسی شده است. نتایج نشان می دهد که غشاءها دارای اندازه حفره های ریز و یکنواخت با کانال های موازی هم هستند. اندازه حفره ها در رنج 50 نانومتر تا 100 نانو متر با ضخامتی بیش از 60 میکرومتر به دست می آید. با بررسی نتایج معلوم شد که اندازه حفره با ولتاژ رابطه مستقیم دارد. هچنین ضخامت لایه آندی هم با افزایش ولتاز افزایش می یابدکلیدواژه ها
مقالات مرتبط جدید
اطلاعات بیشتر در مورد COI
COI مخفف عبارت CIVILICA Object Identifier به معنی شناسه سیویلیکا برای اسناد است. COI کدی است که مطابق محل انتشار، به مقالات کنفرانسها و ژورنالهای داخل کشور به هنگام نمایه سازی بر روی پایگاه استنادی سیویلیکا اختصاص می یابد.
کد COI به مفهوم کد ملی اسناد نمایه شده در سیویلیکا است و کدی یکتا و ثابت است و به همین دلیل همواره قابلیت استناد و پیگیری دارد.