Influence of missmatch-induced stress and porosity of materials on technological process
- سال انتشار: 1401
- محل انتشار: فصلنامه بین المللی تحقیقات در مهندسی صنایع، دوره: 11، شماره: 2
- کد COI اختصاصی: JR_RIEJ-11-2_001
- زبان مقاله: انگلیسی
- تعداد مشاهده: 169
نویسندگان
Nizhny Novgorod State Technical University, ۲۴ Minin Street, Nizhny Novgorod, ۶۰۳۹۵۰, Russia.
چکیده
In this paper we introduce an approach to increase density of field-effect transistors framework a C-multiplier. Framework the approach we consider manufacturing the inverter in heterostructure with specific configuration. Several required areas of the heterostructure should be doped by diffusion or ion implantation. After that dopant and radiation defects should by annealed framework optimized scheme. We also consider an approach to decrease value of mismatch-induced stress in the considered heterostructure. We introduce an analytical approach to analyze mass and heat transport in heterostructures during manufacturing of integrated circuits with account mismatch-induced stress.کلیدواژه ها
C-multiplier, Optimization of manufacturing, Accounting of missmatch induced stress and porosity of materials, analytical approach for modellingاطلاعات بیشتر در مورد COI
COI مخفف عبارت CIVILICA Object Identifier به معنی شناسه سیویلیکا برای اسناد است. COI کدی است که مطابق محل انتشار، به مقالات کنفرانسها و ژورنالهای داخل کشور به هنگام نمایه سازی بر روی پایگاه استنادی سیویلیکا اختصاص می یابد.
کد COI به مفهوم کد ملی اسناد نمایه شده در سیویلیکا است و کدی یکتا و ثابت است و به همین دلیل همواره قابلیت استناد و پیگیری دارد.