لایه نشانی سیلیکون به کمک دستگاه DC-PECVD

سال انتشار: 1401
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: فارسی
مشاهده: 556

فایل این مقاله در 10 صفحه با فرمت PDF قابل دریافت می باشد

استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:

لینک ثابت به این مقاله:

شناسه ملی سند علمی:

ECMECONF12_035

تاریخ نمایه سازی: 4 مرداد 1401

چکیده مقاله:

با توسعه ی علم وفناوری، لایه های نازک، بیش از پیش اهمیت و ضرورت خود را در صنایع مختلف و پژوهشهای محققان نشان دادهاند. از طرفی دیگر، نقش باتری ها و بخصوص باتری های مدرن نظیر باتری یون- لیتیوم در سیستمهای مختلف بطور روز افزونی بیشتر شده است. در میان مواد مورد استفاده در آند باتری یون- لیتیوم، سیلیکون دارای جایگاه ویژهای میباشد چرا که ظرفیت ذخیره سازی باتری با استفاده از ماده سیلیکون حدود ۱۰ برابر گرافیت در وزن مساوی میباشد که این امر منجر به سبکتر شدن باتریهای لیتیومی میشود. به این ترتیب ساخت لایه های نازک سیلیکون دارای اهمیت خاص میباشد. در این مقاله، روی بستر مس با استفاده از دستگاه لایه نشانی بخار شیمیایی به کمک پلاسما ساختارهای میکرومتری از سیلیکون و ترکیبات دیگر، رشد داده شده است. مزیت اصلی این روش، انجام پروسه در دمای پایین و در محیطی عاری از هرگونه آلودگی است. بعلاوه از مایع سیلیکون تتراکلراید جهت لایه نشانی استفاده شد که خطرات آن در مقایسه با سایلن، به طور قابل ملاحظه ای کمتر است. مزایای استفاده از مس هم به عنوان زیرلایه، ارزان بودن، قابل دسترس بودن و هدایت الکتریکی بالای ان می باشد. لایه نشانی در دمای ۳۵۰ درجه ی سانتیگراد، فشار ۶۹۰ میلی تور و مدت زمان ۴ ساعت انجام شده است و نتایج ان در مقاله ارائه میشود.

نویسندگان

نادیا وجدانی

کارشناسی ارشد دانشگاه شهید بهشتی

محمدجواد شریفی

دانشیار دانشگاه شهید بهشتی