تاثیر مقادیر ولتاژ بایاس بر روی پوشش اکسید آلومینیوم به روش تبخیر واکنشی فعال شده بر روی فولاد ابزار T۴

پوشش اکسید آلومینیوم (آلومینا) بدلیل دارا بودن خواص متنوع مانند سختی بالا، مقاومت به خوردگی و سایش و داشتن خواصنوری خوب بطور گسترده ای در زمینه های مختلف بخصوص صنایع الکترونیکی و تزئینی مورد استفاده قرار گرفته است. در اینتحقیق هدف ایجاد پوشش آلومینا بر روی فولاد ابزار T۴ بوسیله فرآیند تبخیر واکنشی فعال شده و سپس بررسی مقادیر ولتاژ بایاسروی پوشش می باشد. بدین منظور نمونه ها در محیط پلاسما تحت زمان اکسیژن دهی ۴۵ دقیقه، دمای زیرلایه ۸۰۰˚С و مقادیر ولتاژبایاس ۰، ۵۰ و ۱۰۰ ولت توسط فرآیند تبخیر واکنشی فعال شده پوشش داده شدند. در نهایت جهت بررسی ساختار کریستالی توسط آنالیز XRD ، ریزساختار و مورفولوژی لایه تشکیل شده توسط آنالیز SEM ، جهت بررسی زبری پوشش از آنالیز AFM و همچنینجهت بررسی سختی سنجی پوشش از روش سختی سنجی ویکرز مورد استفاده قرار گرفت. نتایج نشان داد که هر چه ولتاژ بایاسزیرلایه بیشترباشد زبری پوشش بیشتر می شود. همچنین نمونه هایی که باردار شده اند (Biased) سختی بالاتری نسبت به نمونه هاییکه باردار نشده اندرا دارا می باشند که این مطلب می تواند ناشی از متراکم تر شدن لایه ی تشکیل شده به علت جذب بیشتر یونهای اکسیژن موجود در محیط پلاسما باشد.

کلیدواژه ها:

آلومینا ، فولاد ابزار T۴ ، فرآیند تبخیر واکنشی فعال شده ، ولتاژ بایاس