Effect of Process Parameters on Electrical Properties of Chromium thin films deposited on ITO substrate by Rf sputtering through Solar cells
- سال انتشار: 1390
- محل انتشار: چهاردهمین کنفرانس دانشجویی مهندسی برق کشور
- کد COI اختصاصی: ISCEE14_045
- زبان مقاله: انگلیسی
- تعداد مشاهده: 2036
نویسندگان
Azad Islamic University of Iran-Center Tehran Branch, Tehran, Iran
Thin film laboratory, ECE Department, University of Tehran, Tehran, Iran
چکیده
In order to obtain a suitable ohmic contact with the lowest resistivity, Chromium (Cr) thin films were deposited on transparent conductive oxide indium tin oxide (ITO) by RF sputtering method in argon atmosphere and its electrical properties were optimized. The deposition of Cr thin film has been performed for the layers with thickness of 150, 300 and 600 nm in constant Ar gas flow of 30sccm. Results show that the lowest contact resistivity belongs to the layer with 600 nm thickness. Furthermore Cr/ITO has been studied for five different Rf power of 100,150,200,250 and 300 W while the deposition with constant thickness of 600 nm Cr, which gave us the lowest contact resistivity. Experimental results show that the best specific contact resistance achieved at Rf power of 150W with amount of 4.7×10-2 cm2.The prepared samples were characterized using a field emission scanning electron microscopeکلیدواژه ها
Chromium, ITO, Rf Sputtering, SEMمقالات مرتبط جدید
اطلاعات بیشتر در مورد COI
COI مخفف عبارت CIVILICA Object Identifier به معنی شناسه سیویلیکا برای اسناد است. COI کدی است که مطابق محل انتشار، به مقالات کنفرانسها و ژورنالهای داخل کشور به هنگام نمایه سازی بر روی پایگاه استنادی سیویلیکا اختصاص می یابد.
کد COI به مفهوم کد ملی اسناد نمایه شده در سیویلیکا است و کدی یکتا و ثابت است و به همین دلیل همواره قابلیت استناد و پیگیری دارد.