بررسی پایداری لایه SIOx رسوب شده بر روی سطح مس توسط پلاسما برای افزایش انتقال حرارت جوشش استخری

سال انتشار: 1399
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: فارسی
مشاهده: 321

فایل این مقاله در 11 صفحه با فرمت PDF قابل دریافت می باشد

استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:

لینک ثابت به این مقاله:

شناسه ملی سند علمی:

MECCONF04_013

تاریخ نمایه سازی: 23 اسفند 1399

چکیده مقاله:

در این مطالعه، یک فیلم نازک، متشکل از SiOx معدنی توسط فناوری پلاسما، بر روی سطح مس رسوب شده است. آزمایش جوشش استخری در شرایط اشباع و اتمسفریک انجام شده و تأثیر پوشش بر عملکرد جوشش استخری مورد بررسی قرار گرفته است. خیش شوندگی فیلم نازک رسوب شده بر روی سطح به وسیله اندازه گیری زاویه تماس مورد ارزیابی قرار گرفت. علاوه بر افزایش خصوصیات حرارتی جوشش استخری به ویژه ضریب انتقال حرارت، مشاهده شد که لایه نازک پلاسما رسوب داده شده روی سطح مس پس از چهار چرخه جوشش/ خنک شوندگی پایدار است.

نویسندگان

حمیدرضا محمدی

کارشناسی ارشد، گروه مهندسی هسته ای، دانشگاه شیراز ایران

حامد تقوایی

استادیار گروه مهندسی شیمی، دانشگاه شیراز ایران

عطا اله ربیعی

دانشیار گروه مهندسی هسته ای، دانشگاه شیراز ایران