ساخت بلور فوتونیکی پلیمری معلق یکبعدی و دو بعدی با لایه سولفید روی، بااستفاده از روشلیتوگرافی تداخلی و لیتوگرافی با ماسک

سال انتشار: 1390
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: فارسی
مشاهده: 1,167

متن کامل این مقاله منتشر نشده است و فقط به صورت چکیده یا چکیده مبسوط در پایگاه موجود می باشد.
توضیح: معمولا کلیه مقالاتی که کمتر از ۵ صفحه باشند در پایگاه سیویلیکا اصل مقاله (فول تکست) محسوب نمی شوند و فقط کاربران عضو بدون کسر اعتبار می توانند فایل آنها را دریافت نمایند.

استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:

لینک ثابت به این مقاله:

شناسه ملی سند علمی:

NCOLE02_056

تاریخ نمایه سازی: 24 اسفند 1389

چکیده مقاله:

در این مقاله، کریستالهای فوتونیکی در پلیمر SU8 با استفاده از روشلیتوگرافی تداخلی با تناوب زیر میکرومتر ایجاد شدهاند.به منظور معلقسازی و ایجاد پایه ها، لایه نشانی مجدد پلیمر SU8 ضخیمتر و تابشنور فرابنفشهمراه با ماسکبر روی آن انجام شد. با استفاده از محلول ظهور مادهSU8 طرح پایه های کریستال فوتونیکی ایجاد شده، و پساز جدا سازی به روششیمیایی، کریستالهای فوتونیکی معلق ساخته شدند. سپسبه منظور افزایشکنتراست ضریب شکست، یکلایه از سولفید روی با ضریب شکست 2/3 بر روی آن لایه نشانی شده است.

نویسندگان

محمد پیروی

دانشگاه امام حسین(ع)- تهران، اتوبان شهید بابایی

جواد خلیل زاده

دانشگاه امام حسین(ع)- تهران، اتوبان شهید بابایی

شاهین باقری

دانشگاه صنعتی مالک اشتر پردیس تهران

پیام حیدری

دانشگاه صنعتی مالک اشتر پردیس تهران

مراجع و منابع این مقاله:

لیست زیر مراجع و منابع استفاده شده در این مقاله را نمایش می دهد. این مراجع به صورت کاملا ماشینی و بر اساس هوش مصنوعی استخراج شده اند و لذا ممکن است دارای اشکالاتی باشند که به مرور زمان دقت استخراج این محتوا افزایش می یابد. مراجعی که مقالات مربوط به آنها در سیویلیکا نمایه شده و پیدا شده اند، به خود مقاله لینک شده اند :