ساخت بلور فوتونیکی پلیمری معلق یکبعدی و دو بعدی با لایه سولفید روی، بااستفاده از روشلیتوگرافی تداخلی و لیتوگرافی با ماسک
محل انتشار: دومین همایش ملی مهندسی اپتیک و لیزر ایران
سال انتشار: 1390
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: فارسی
مشاهده: 1,167
متن کامل این مقاله منتشر نشده است و فقط به صورت چکیده یا چکیده مبسوط در پایگاه موجود می باشد.
توضیح: معمولا کلیه مقالاتی که کمتر از ۵ صفحه باشند در پایگاه سیویلیکا اصل مقاله (فول تکست) محسوب نمی شوند و فقط کاربران عضو بدون کسر اعتبار می توانند فایل آنها را دریافت نمایند.
- صدور گواهی نمایه سازی
- من نویسنده این مقاله هستم
استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:
شناسه ملی سند علمی:
NCOLE02_056
تاریخ نمایه سازی: 24 اسفند 1389
چکیده مقاله:
در این مقاله، کریستالهای فوتونیکی در پلیمر SU8 با استفاده از روشلیتوگرافی تداخلی با تناوب زیر میکرومتر ایجاد شدهاند.به منظور معلقسازی و ایجاد پایه ها، لایه نشانی مجدد پلیمر SU8 ضخیمتر و تابشنور فرابنفشهمراه با ماسکبر روی آن انجام شد. با استفاده از محلول ظهور مادهSU8 طرح پایه های کریستال فوتونیکی ایجاد شده، و پساز جدا سازی به روششیمیایی، کریستالهای فوتونیکی معلق ساخته شدند. سپسبه منظور افزایشکنتراست ضریب شکست، یکلایه از سولفید روی با ضریب شکست 2/3 بر روی آن لایه نشانی شده است.
کلیدواژه ها:
نویسندگان
محمد پیروی
دانشگاه امام حسین(ع)- تهران، اتوبان شهید بابایی
جواد خلیل زاده
دانشگاه امام حسین(ع)- تهران، اتوبان شهید بابایی
شاهین باقری
دانشگاه صنعتی مالک اشتر پردیس تهران
پیام حیدری
دانشگاه صنعتی مالک اشتر پردیس تهران
مراجع و منابع این مقاله:
لیست زیر مراجع و منابع استفاده شده در این مقاله را نمایش می دهد. این مراجع به صورت کاملا ماشینی و بر اساس هوش مصنوعی استخراج شده اند و لذا ممکن است دارای اشکالاتی باشند که به مرور زمان دقت استخراج این محتوا افزایش می یابد. مراجعی که مقالات مربوط به آنها در سیویلیکا نمایه شده و پیدا شده اند، به خود مقاله لینک شده اند :