اثر مورفولوژی لایه های سطحی بررفتار پسیو شدن اندهای ریختگی مس در طی فرایند پالایش الکتریکی

  • سال انتشار: 1385
  • محل انتشار: دهمین کنگره سالانه انجمن مهندسین متالورژی ایران
  • کد COI اختصاصی: CIMS10_334
  • زبان مقاله: فارسی
  • تعداد مشاهده: 1220
دانلود فایل این مقاله

نویسندگان

علی صارمی

کارشناس ارشد بخش مهندسی متالورژی دانشگاه شهید باهنر کرمان

عبدالحمید جعفری

استادیار بخش مهندسی متالورژی

غلامرضا گردانی

کارشناس ارشد دانشکده مهندسی مواد

مسعود حسنخانی

کارشناس ارشد بخش مهندسی متالورژی دانشگاه شهید باهنر کرمان

چکیده

پسیو شدن اندهای مس تجارتی و مس خالص با استفاده از روشهای الکتروشیمیایی مور دمطالعه قرارگرفته است نتایج حاصل از تست کرونوپتانسیومتری نشان دهنده چهار ناحیه 1-انحلال فعال، 2- مرحله قبل از پسیو شدن 3- شروع فرایند پسیو شدن و 4- پسیو شدن کامل برای نمونه های مس تجارتی و تنها ناحیه انحلال فعال برای مس خالص تحت شرایط ازمایش می باشد براین اساس یک مدل دولایه ای شامل یک لایه با ماهیت الکتروشیمیایی فیلم پسیو و یک لایه با جذب فیزیکی لایه لجن برروی سطح مشاهده شده است در تحقیق حاضر تلاش گردید تا با استفاده از انالیزهای EDS,SEM برروی لایه لجن و همچنین فیلم پسیو نمونه های تجارتی مس رابطه میان مورفولولژی لایه های سطحی و رفتار پسیو شدن مورد مطالعه قرار می گیرد نتایج حاصل نشان داد که تشکیل و پایداری فیلمهای اکسیدی مس نقش بحرانی برروی شروع و پیشرفت فرایند پسیو شدن ایفا می نماید همین طور ساختار و تخلخل لایه لجن پایداری فیلم های اکسیدی را کنترل می نماید

کلیدواژه ها

پسیو شدن مس، پالایش الکتریکی، ، گالوانواستاتیک ، مورفولوژی لایه های سطحی

مقالات مرتبط جدید

اطلاعات بیشتر در مورد COI

COI مخفف عبارت CIVILICA Object Identifier به معنی شناسه سیویلیکا برای اسناد است. COI کدی است که مطابق محل انتشار، به مقالات کنفرانسها و ژورنالهای داخل کشور به هنگام نمایه سازی بر روی پایگاه استنادی سیویلیکا اختصاص می یابد.

کد COI به مفهوم کد ملی اسناد نمایه شده در سیویلیکا است و کدی یکتا و ثابت است و به همین دلیل همواره قابلیت استناد و پیگیری دارد.