بررسی اثر ضخامت بر مقاومت الکتریکی لایه های لایه نشانی شده با دو گاز استیلن و متان به روش رسوب گذاری بخار شیمیایی پلاسمایی

  • سال انتشار: 1398
  • محل انتشار: بیستمین همایش ملی مهندسی سطح و اولین کنفرانس آنالیز تخریب و تخمین عمر
  • کد COI اختصاصی: ISSE20_044
  • زبان مقاله: فارسی
  • تعداد مشاهده: 1050
دانلود فایل این مقاله

نویسندگان

نسبیه صابری پیروز

پژوهشکده لیزر پلاسما، دانشگاه شهید بهشتی (کارشناسی ارشد)

مرضیه عباسی فیروزجاه

دانشکده مهندسی، دانشگاه فناوری های نوین سبزوار، سبزوار (استادیار)

سید ایمان حسینی

دانشکده فیزیک، دانشگاه صنعتی شاهرود (استادیار)

بابک شکری

دانشکده فیزیک، دانشگاه شهید بهشتی (استاد)

چکیده

لایه های نازک کربنی بر روی زیرلایه ی سیلیکون که بر روی آن یک لایه نازک دی الکتریک از جنس سیلیکون دی اکسید پوشش دهی شده است، به روش رسوب گذاری بخار شیمیایی پلاسما لایه نشانی شده اند. این لایه ها با استفاده از گاز استیلن و متان در توان 500 وات و در مدت زمان های مختلفی تولید شدند. پس از اندازه گیری ضخامت لایه ها، اثر آن بر روی مقاومت الکتریکی لایه های تولید شدهد برای هر دو مورد گاز متان و استیلن مورد بررسی قرار گرفته است. ضخامت لایه های لایه نشانی شده با استفاده از دستگاه بیضی سنجی اندازه گیری شده است. همچنین مقاومت الکتریکی لایه های تولید شده با استفاده از دستگاه پروب چهار نقطه ای به دست آمده است. نتایج نشان می دهد با افزایش لایه نشانی که از این طریق لایه های با ضخامت های بیشتری تولید شده است، مقاومت لایه ها کاهش یافته است.

کلیدواژه ها

رسوب گذاری بخار شیمیایی پلاسما، مقاومت سطحی، پروب چهار نقطه ای، لایه نازک کربنی، زمان لایه نشانی، گاز متان، گاز استیلن

مقالات مرتبط جدید

اطلاعات بیشتر در مورد COI

COI مخفف عبارت CIVILICA Object Identifier به معنی شناسه سیویلیکا برای اسناد است. COI کدی است که مطابق محل انتشار، به مقالات کنفرانسها و ژورنالهای داخل کشور به هنگام نمایه سازی بر روی پایگاه استنادی سیویلیکا اختصاص می یابد.

کد COI به مفهوم کد ملی اسناد نمایه شده در سیویلیکا است و کدی یکتا و ثابت است و به همین دلیل همواره قابلیت استناد و پیگیری دارد.