لیتوگرافی تداخل لیزری: شبیه سازی و نتایج تجربی

چندین روش برای ساخت نانوساختارها روی زیر لایه جامد وجود دارد. مانند باریکه یونی کانونی شده (FIB) ، لیتوگرافی تداخل لیزری (LIL) و لیتوگرافی باریکه الکترونی (EBL) روش های FIB و EBL بسیار دقیق هستند و می توانند برای ساخت نقش ها در ابعاد نانو استفاده شوند. اما آنها بسیار پرهزینه و وقت گیر هستند. به هرجهت روش LIL خیلی سریع و ارزان است به علاوه LIL میتواند برای ساخت نانوساختارها در ناحیه های بزرگ استفاده شود. در این مقاله ما با استفاده از برنامه های متلب، نقش های حاصل از تداخل دو یا چند باریکه لیزری روی زیرلایههای پوشیده شده با یکلایه فتورزیست را شبیه سازی کردیم. چندین نقش برای مقایسه نتایج آزمایشگاهی با نتایج شبیه سازی ساخته شدند.نتایج شبیه سازی تطابق خوبی با خروجی های آزمایشگاهی دارند. نتایج نشان می دهند که با افزایش تعداد پرتودهی هانقش های حاصل شبیه حلقه های هم مرکزی میشوند که اختلاف بین شعاع دو حلقه مجاور برای تمام حلقهها یکسان است.

کلیدواژه ها:

آینه لوید ، لیتوگرافی تداخل لیزری ، نانو نقشهای دورهای