مطالعه عددی لایه نشانی شیمیایی بخار سیلیسیم در محیط پلاسما

لایه نشانی شیمیایی بخار بکمک پلاسما یکی ازپرکاربردترین روش های لایه نشانی است که معمولا دردماهای کمتراز 350درجه سانتیگراد صورت میگیرد دراینروش بجای انرژی گرمایی از ذرات انرژی دار برای انجام واکنش استفاده می شود تالایه نشانی بتوانددردمای پایین و با سرعت قابل قبولی صورتگیرد دراین سیستم توان الکتریکی با ولتاژ نسبتا بالا و درفشارپایین برای یونیزه کردن گاز فراهم می شود که باعث شکستن مولکولهایگاز به الکترونها و یونها می شود درمقاله حاضر لایه نشانی فیلم نازک سیلیکن Si درراکتور PECVD شبیه سازی شده و فرایند تشکیل SI روی زیرلایه مورد بحث و بررسی قرارگرفته است ورودی راکتور گاز سیلان SiH4) بهعنوان گاز اصلی واکنش دهنده می باشد که محیط پلاسما را ایجاد م یکند دراین شبیه سازی محیط گازی را محیطی پیوسته جریان گاز را جریانی آرام و سرعت ورودی گاز را برابربا 0/1 متر برثانیه فرض کردها یمهمچنین ازاثرات تابش صرفنظر نموده و گازها را درمحیط پلاسما ایده آل درنظر میگیریم

کلیدواژه ها:

لایه نشانی به کمک پلاسماpecvd ، شبیه سازی ، سیلیسیم ، گاز سیلان