بررسی نتایج تجربی و چالش های روش کالیبراسیون فیزیکیضخامت سنج دستگاه اسپاترینگ برای لایه نازک کادمیوم سولفاید

سال انتشار: 1393
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: فارسی
مشاهده: 853

متن کامل این مقاله منتشر نشده است و فقط به صورت چکیده یا چکیده مبسوط در پایگاه موجود می باشد.
توضیح: معمولا کلیه مقالاتی که کمتر از ۵ صفحه باشند در پایگاه سیویلیکا اصل مقاله (فول تکست) محسوب نمی شوند و فقط کاربران عضو بدون کسر اعتبار می توانند فایل آنها را دریافت نمایند.

استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:

لینک ثابت به این مقاله:

شناسه ملی سند علمی:

AEBSCONF01_266

تاریخ نمایه سازی: 6 آبان 1393

چکیده مقاله:

با توجه به تاثیر ضخامت و یکنواختی بر مشخصات ساختاری، الکتریکی و اپتیکی لایه ها به خصوص کادمیوم سولفاید، کنترل صحت ضخامت لایه در حین و پایان لایه نشانی بسیار حائز اهمیت می باشد. این امر توسط مجموعه ضخامت سنج دستگاه ها صورت می پذیرید. اما از آن جا که ضخامت نمایش داده شده با ضخامتی که مورد نظر کاربر است متفاوت است فرایند کالیبراسیون ضخامت سنج دستگاه اسپاترینگ RF مدل MSS2-160 به صورت تجربی و با لایه نشانی بر روی زیرلایه های غیر منعطف انجام شد. جنس لایه، ضخامت بهینه در کاربرد نهایی لایه مورد نظر، و نیز تکنولوژی دستگاه های با قابلیت اندازه گیری ضخامت از جمله پروفایلمتر و الیپسومتر، موجب گردید زیرلایه ا به ترتیب از جنس شیشه لام آزمایشگاه ویفرسیلیکون انتخاب شدند. نتایج فرایندهای فوق با ضخامت های مختلف نشان داد، جهت تطابق با رزولوشن و دقت دستگاه های اندازه گیری، ضخامت مناسب لایه برای کالیبراسیون ضخامت سنج و قبل از تعیین میزان ضریب تولینگ می بایست حداقل 100nm بوده و میزان ضریب تولینگ در صورت قرارگیری ضخامت سنج پایین تر از سطح زیر لایه از ابتدا 05 درصد تعیین گردید.

کلیدواژه ها:

کالیبراسیون ضخامت سنج ، روش ضخامت سنجی لایه ای نانومتری ، کنترل نرخ لایه نشانی ، Thickness monitor

نویسندگان

علیرضا عرفانیان

دانشکده الکترونیک دانشگاه صنعتی مالک اشتر تهران

مجیدرضا علی احمدی

دانشکده الکترونیک دانشگاه صنعتی مالک اشتر تهران

طیبه صحرایی بلوردی

دانشکده الکترونیک دانشگاه صنعتی مالک اشتر تهران

مراجع و منابع این مقاله:

لیست زیر مراجع و منابع استفاده شده در این مقاله را نمایش می دهد. این مراجع به صورت کاملا ماشینی و بر اساس هوش مصنوعی استخراج شده اند و لذا ممکن است دارای اشکالاتی باشند که به مرور زمان دقت استخراج این محتوا افزایش می یابد. مراجعی که مقالات مربوط به آنها در سیویلیکا نمایه شده و پیدا شده اند، به خود مقاله لینک شده اند :
  • J. GRAHAM AND L. H. PEIRCE, 1985. Calibration method for ...
  • Milton Ohring, 2001. The Materials Science of Thin Films, 2nd ...
  • Jean M. Bemnett, Lars Mattsson, 1989. Introduction o Surface Roughness ...
  • W J Walecki, F Szondy and MM Hilali, 2008. "Fast ...
  • Norm Hardy, 2013. Thin Film Deposition Control By Quartz Crystal ...
  • SQM 160 , Users Guide, Rate/Thickne SS monitor, Version 4.09 ...
  • MSS2-160 sputtering instrument user manual ...
  • نمایش کامل مراجع